Caractérisation structurelle et optimisation des propriétés de diffraction des cristaux à gradient de maille Si1-xGex crûs par déposition chimiqueKlaus-Dieter Liss
Des nouveaux cristaux Si1-xGex à gradient de maille avec 0 < x < 0,4 ont été fabriqués par déposition de vapeur chimique pour la première fois en grande surface avec des taux de croissance de 0,6ݵm/min. Les épaisseurs peuvent atteindre plusieurs 100ݵm. Ses structures ont été caractériséess par la microscopie optique et électronique, par microsonde et par leurs propriétés de diffusion. Ces dernières livrent la distribution mosaïque et le gradient de maille. En particulier on a trouvé une déformation tétragonale du réseau cristallin qui s'explique par la différence de la dilatation thermique entre les couches. L'anisotropie de la mosaïcité démontre l'existence de dislocations dûes à la différence des paramètres de maille. Les propriétés de diffraction ont été testées par plusieurs techniques en très haute résolution en espace réciproque tant que la rétrodiffusion et spectrométrie par temps de vol neutronique ainsi que l'utilisation d'un diffractomètre à trois cristaux à hautes énergies X. Les courbes de réflexion calculées par la méthode de matrices de transfert s'adaptent bien aux résultats expérimentaux. Du point de vue d'un monochromateur neutronique, les résultats montrent une augmentation de l'intensité de 25 par rapport à la fonction de résolution instrumentale. En comparant cette valeur avec la valeur théorique d'un cristal de silicium parfait, on obtient un facteur de 40. En vue de cette étude de faisabilité et pour une meilleure caractérisation, les gradients de maille ont été fabriqués trop raides, ainsi que la réflectivité maximale de 100Ý% ne pouvait pas être atteinte. Dans cet exemple l'élargissement du vecteur de diffusion était 70 fois la largeur naturelle d'un cristal parfait et a été poussé avec Dd/d = 1,4·10-2 à un facteur 700!
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Last modified: 18. January 2004 Author: Klaus-Dieter Liß |